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在電子工業(yè)中如何正確選用成都高純氣體?
作者:admin 發(fā)布日期:2023/4/7 關(guān)注次數(shù): 二維碼分享

隨著科學(xué)技術(shù)向高、精、尖發(fā)展,對各種原材料“純度”的要求開始越來越高。但是,高純氣體所能提供的數(shù)量通??偸禽^少的,同時,價格昂貴。因此,如何正確地恰如其分地提出對原料氣的純度要求,如何選用成都高純氣體就成為一個值得討論的問題。正確地處理好這個問題,在技術(shù)和經(jīng)濟上都會帶來深刻的影響。

01氣體純度的含義

通常,人們常用百分濃度來表示氣體的純度,即所謂用幾個“9”字的表示法。例如,某種氣體濃度為百分之99.9,表示含有百分之0.1 的雜質(zhì)(即雜質(zhì)含量為1000ppm)。按通常的概念,顯然,濃度為99.995%的氣體比99.99%的氣體更純,人們使用起來似乎能更放心。但是,如果在選擇純度時限于這種考慮,則不論對科研或生產(chǎn)都將有不利的影響。如果只作這樣的考慮,顯然忽視了兩個主要因素,即高純氣的價格和所含雜質(zhì)的危害性。

02高純氣體

眾所周知,氣體的純度愈高,其價格越高,而且隨著“9 ”字數(shù)目的增加,價格上升比按指數(shù)上升更快。

獲得7個“9”以上的高純氣體,現(xiàn)已相當困難,除在實驗室中能提供一部分外,在一般工業(yè)生產(chǎn)中難以大量提供。因此,從經(jīng)濟上來說,單純追求“9”字數(shù)目的純氣體,除了在科研中還能有條件地接受之外,在一般生產(chǎn)上是根本無法接受的。為此,我們應(yīng)該從氣體中所含雜質(zhì)的濃度和該雜質(zhì)對本工藝的危害性角度出發(fā)來選擇使用高純氣體。這是因為目前要使氣體中的雜質(zhì)總量降到lppm以下雖然是困難的,但對將單項有害雜質(zhì)降到l×10-9或更低的水平還是可能的。按目前的工藝水平,硅中雜質(zhì)總含量不會低于10-8(1ppm)的水平,但是,對其中有危害的電活性雜質(zhì)磷、硼等的單項控制,已達1×10-8 ~l×10-10 。(即0.1~0.01ppb)的水平。

03純度以用途命名

因此,國外對于高純氣體就不再單純地用幾個“9”來表示,直接以不同用途來作為高純氣體的級別命名。諸如光譜純級、原子能級、電子級、半導(dǎo)體級、太陽能電池級、外延級、VLSI級(超大規(guī)模集成電路級)、研究級等等。它們只代表該級材料適合于某種場合的用途,并不說明其雜質(zhì)含量一定小于某值。正象通常把化學(xué)試劑分成G.R.、A.R.、C.P.三級,只表示它們的純度分別達到了“優(yōu)良”、 “可作分析用”、“只作一般化學(xué)試劑用”,并不一定表示某種材料或試劑的雜質(zhì)總含量減少到了某一數(shù)量級。同級別的不同材料或試劑,其所含雜質(zhì)的多少有時可相差幾個數(shù)量級。按用途分別來選擇材料的純度,就能使我們在選擇材料時比較有的放矢,克服盲目性。

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